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μ-Spot Spectroscopic Ellipsometer

DATE 19-09-04 16:45

光谱椭偏仪(SE)是一种工业标准技术，可以精确测量薄膜的厚度和光学常数，同时，它也被用于各种材料(如电介质、半导体、有机物等)的表征，包括AR涂层、OLED和低(高)介电常数材料。

◈ 特点 (FEATURE)

1.操作简单，快速测量
2.高重复性
3.人性化操作
4.非接触&无损伤
5.多膜层
6.在线测量（磁控溅射,ALD,PECVD,等等）

◈ 规格 (SPECIFICATION)

测量常数	膜层厚度，折射率n，消光系数k，波长λ
膜厚范围	亚埃级-10微米（取决于膜层）
波长范围	240 ~ 1050 nm (uv)
	Option of Spectral Range 光谱范围选项
	- (Duv: 193 nm ~ 1,050 nm), IR: 900nm ~ 1700nm, 900nm~ 2,200nm)
测量速度	正常模式（~10 sec）每点，快速模式（1~3 sec）每点（取决于膜层）
光斑尺寸	10μm, 25 μm, 50 μm, 100μm
入射角	45°~90°（自动变换角度）
膜层数量	多至10层（取决于膜层）
重复性(3σ)	10次测量在±0.3 Å
色散关系	Cauchy, Sellmeier, Lorentz, Tauc-Lorentz, Quantum-Mechanical, Drude-TL, Drude-QM and more
提供功能
提供功能	折射率、消光系数和光带隙薄膜密度和组成，材料的色散函数库用户定义的模型功能，数据导入和导出功能可扩展库

◈ 选项 (OPTION)

1.自动映射平台（R/θ, 150 mm, 200 mm, 300 mm,客户定制尺寸, 2D,3D显示）

2.光谱范围选项（紫外: 193 nm ~ 1,050 nm），（红外：900nm ~ 1,700nm, 900nm~ 2,200nm）

3.自动对准系统

4.自动改变入射角（45°~ 90°）

◈ 应用 (APPLICATION)

1.介质层，半导体，聚合物的厚度测量

2.支持正面/反面反射

3.超薄膜层，超厚膜层

4.多种衬底（Silicon, GaAs, , Al, Steel, Glass, Al2O3, PC, PET, Polymer films以及其他膜层）

5.半导体材料：Si, Ge, ONO, ZnO, PR, poly-Si, GaN, GaAs, Si3N4

6.显示（包括OLED）：ITO, PR, MgO, Alq3 , CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS, NPB, SiO2 , ONO

7.介质：SiO2 , TiO2 , Ta2O5 , ITO, AIN, ZrO2 , Si3N4 , Ga2O3 , 湿法氧化材料

8.聚合物：Dye, NPB, MNA, PVA, PET, TAC, PR

9.化合物：Organic film(OLED) & LB Thin film

10.太阳能电池：SiN, a-Si, poly-Si, SiO2 , Al2O3