公司概述和历史 1 페이지 | (주)엘립소테크놀러지

公司概述和历史

薄膜在21世纪纳米技术（NT）时代有着多样化的应用，因此，对薄膜的结构和性能测量的仪器—椭偏仪(Ellipsometer)的需求也大大的增加。

然而，由于基础设施缺乏，国内工业企业不得不100%的依靠进口设备。Kim Sang-Youl—Ajou大学的教授，世界上著名的椭偏法专家。在2000年7月，以其丰富的研究经验成立了艾利普所科技。这是国内最专业的公司，特别是在薄膜的偏振分析上。

金教授通过艾利普所科技公司开发了单波长椭偏仪(Single Wavelength Ellipsometer, SWE)和光谱椭偏仪(Spectroscopic Ellipsometer, SE)，他还发展延伸了系统，包括加入双激光，可变入射角（AOI），映射，微观察，偏振控制，光谱传输/反射比等。

另外，除了椭偏仪和偏振器等产品，通过综合椭偏仪与分光计，并且采用探针式光谱反射计（m-FFT），我们公司研发和供应了宽范围测量厚度的光学设备，可测量如从亚埃级薄膜到数百微米厚的厚膜，用于各种产品，比如图案上的 MgO模式, OLED, LED, 太阳能电池(Solar Cell)等。

此外，基于椭偏和偏振技术，我们开发了的超精准度的偏振测量设备，比如迟缓(R_in, R_th, Zero Retardation)分析设备，拓片薄膜测量系统，高铬（<百万：1）测量系统，针对多组合平板（含偏振板和补偿板）的光轴弯曲测量系统，还有微偏振测量器相继被开发。
通过不断的研究，艾利普所科技成为了世界上光学薄膜分析设备领先的制造商。我们希望通过提供客户定制和薄膜&偏振分析系统的行业导向跟你们一起成长。

2021	02 月. Optical Society of Korea Winter Conference (17th~19th, Feb)
2020	12 月. Medium-sized venture enterprises Department Minister Commendation Award. (Technology innovation part) 12 月. Patented: Using the polarizer continuous rotating photometry and the complete Fourier Transformation Development of Real-time Spectral Distributor System (Apr. 2019) 11 月. Evaluation Supporting Business of Material, Parts, Equipment mass production Performance Attend 10 月. SEDEX 2020 Attend. 09 月. Patented: Phase displacement measuring device of Blank Phase Shift mask. 02 月. SPIE Advanced Lithography Attend.(San Jose)
2019	12 月. Korea Tech Show 2019 Attend. 11 月. Grand Prize of medium-sized enterprises Awards in Suwon city. (technical development part) 09月. New Homepage Open 07月. Optical Society of Korea Summer Annual Meeting 2019. Department Invite (Analysis of MoS2 Monolayer using Micro-spot Spectroscopic Ellipsometry) 06月. Patented : APPARATUS FOR INSPECTING SURFACEUSING USING SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETER 05月. 8th International Conference on Spectroscopic Ellipsometery (ICSE8, 5.26-31) Development and Evaluation of Microspot Spectroscopic Ellipsometer. 02月. Optical Society of Korea Winter Annual Meeting 2019. 01月. Development of 20μm Spot Size Spectroscopic Ellipometer. 01月. Development of Fast Spectroscopic Ellipometer (measurement time <= 0.8 second)
2018	11月. Patented : Microspot Spectrocopic Ellipsometer With 4-Reflectors 10月. iMiD 2018 Korea Display Exhibition. 10月. Development of a Stepctroscopic Reflector that can measure 1nm Thickness. 01月. Development of DUV Broadband Spectroscopic Ellipsometer with 30 ㎛ Micro Spots and Variable Angle of Incidence System.(The 3th : 2018.01.01~2019.06.30)
2017	12月. Development of DUV Broadband Spectroscopic Ellipsometer with 50 ㎛ Micro Spots. 10月. iMiD 2017 Korea Display Exhibition. 02月. Development of DUV Broadband Spectroscopic Ellipsometer with 100 ㎛ Micro Spots. 02月. Optical Society of Korea Winter Annual Meeting 2017. & (Photoelastic Coefficient and Residual Stress Analysis of PET Film Using Spectroscopic) . 02月. Up grade of Analysis System
2016	09月. Signed Project Agreement from Ministry of Trade Industry and Energy: (Development of DUV Broadband Spectroscopic Ellipsometer with 30 ㎛ Spots and Variable Angle of Incidence System) 05月. Confirmation of venture businesses 01月. Proceedings of the 17th Korea Liquid Crytal Conference & Optical Society of Korea Winter Annual Meeting 2016. "Precise Measurement and Quantitative Analysis of Ultra Small Optical Anisotropy of Rubbed Polyimide Alignment Layers". 01月. Pattern Recognition System.
2015	12月. Developed Elli-ALL System (Ultra Small Optical Anisotropy of Rubbed Polyimide Alignment) - Sample auto alignment module development application. 01月. Elli-SE Export to Vietnam and Elli-PAS Export to Chana.
2014	12月. Patented : Microscope For Inspecting ITO Pattern of Touch-Screen. Panel and Method Thereof. 02月. OSK(Optical Society of Korea) Winter Annual Meeting 2014 Attend. 02月. 2014 Best Paper Award at OSK.
2013	09月. Analysis software upgrade of SE (Greatly improve speed of analysis). 04月. Developed the optic axis measurement system for the sheet polarizer. 01月. New Product Developed : Smart SE.
2012	08月. SW Elli51. Ver. 07月. Developed Elli-Muv, the Inspection Miroscope of ITO pattern on TPS. 02月. 建立中英文网站 01月. SW Elli50_Beta. Ver.
2011	09月. Registered Patent. 06月. Patented Textured Solar Cell Measurement System. 04月. Developed LCD Alignment Layer Analysis System. 03月. 参加 ANALAB 2011 in COEX. 01月. Developing Micro Spot Spectroscopic Ellipsometer.
2010	09月. 与Spectron签订分销协议印度 07月. 办公室搬到新的公司大楼 05月. 第一次出口台湾 03月. 开发延迟测量系统 02月. 建立新网站 01月. 与J&P科技公司签订分销协议中国深圳
2009	12月, 开发高速测量& µ-点椭偏仪 11月, 第二次出口到日本 10月, 开发纹理太阳能电池测量算法 06月, 与Protrustech签订分销协议台湾 / 与Rudolph签订分销协议美国
2008	12月，与BSYH 签订分销协议(中国南京) / 与KARKAR签订分销协议(中国上海) 11月，第一次出口到美国 / 签署京畿道技术开发业务协议：LCD拓片薄膜测量 / 开发新系统 10月，在美国注册专利：用于改进薄膜厚度测量的方法和设备 / 探针式光谱反射计 08月，申请实用专利：µ-点椭偏仪 07月，申请专利：复合材料的光轴偏振轴精密测量系统 04月，开发复合板
2007	12月，被鉴定为 INNO-BIZ 11月，开发精准延迟测量系统 08月，开发精准CR(CR> 1百万)测量系统 07月，开发在线MgO测量系统 03月，总部搬到广桥谷的纳米器件化工技术中心
2006	11月，开发可变入射角椭偏仪(Elli-SE-V) 09月，开发迟缓相位测量系统（Rin, Rth高精密测量系统） 08月，申请专利：偏光片吸收轴弯曲测量系统 07月，签署公司-大学-R&D联合体协议：开发测量偏振轴的高速测量设备获得专利：利用垂直偏振的3-D消弧结构 06月，签署共同的核心技术开发协议：偏振轴精密测量系统及复合材料的开发获得专利：多结合偏振面板的轻轴弯曲测量系统 04月，纳米器件化工技术中心：光谱椭偏仪Elli-SE-F 03月，开发高速精密测量系统Air-Gap
2005	08月，申请国际专利-日本 07月，申请国际专利-日本，美国 04月，注册商标 03月，注册专利（等离子PDP上游玻璃基板的厚度测量装置及MgO的方法） 02月，获得CE标志
2004	12月，注册专利 08月，申请专利 04月，开发地震移动检波器 03月，开发偏振控制传输的微型光学轮廓仪/获得专利
2003	12月，商务部签订项目协议（椭圆光谱膜厚测量仪） 10月，开发微反射/透射光学 09月，原位监测绝缘涂料系统 08月，注册专利/创新发展项目协议（椭圆光谱仪） 07月，注册专利 06月，微光学透过率的开发/申请PCT专利 05月，开发高速光谱椭偏仪 02月，开发双波长椭偏仪
2002	11月，艾利普索—光谱仪使用M - FFT的发展/重建企业（技术公司） 08月，注册专利（旋光剑型原位椭偏仪） 05月，邀请产学联合体协议（项目名称：开发双波长椭偏仪） 04月，授权艾利普索为技术研发（R&D）中心 03月，开发Furnace vision和二维扫描椭偏仪 02月，租用国家创业服务中心/开发可变角椭偏仪
2001	08月，搬到中小企业支援中心（KSBC） 06月，提议学术界联合体协议（开发二维扫描椭偏仪） 05月，签订创新发展项目协议（监察内部发展的成像系统）
2000	12月，商务部签订项目协议（飞行光子的转速光谱椭偏仪开发方法） 07月，成立艾利普索科技有限公司/合资公司认证（优秀企业技术评估），开发短波长椭偏仪 05月，京畿道创业奖大赛/预风险企业认证