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Ellipso Technology
회사개요 및 연혁
회사개요


박막(thin film)의 활용도는 21세기 나노테크놀러지(NT) 시대를 맞아 한층 다양해지며 정교해지고 있습니다. 이에 따라 박막의 구조와 물성을 평가하는데 유용하게 사용되는 타원계(ellipsometer)의 수요도 크게 증가하고 있습니다.

그러나 국내 인프라가 미비하여 당사 창업 이전에는 산업현장에서는 100% 수입장비에 의존하고 있었습니다. 아주대학교에 재직중이던 김상열 교수는 세계적으로 알려진 타원법(ellipsometry) 전문가로써 본인의 풍부한 연구경험을 바탕으로 국내 최고의 박막 및 편광 전문기업인 (주)엘립소테크놀러지를 2000년 7월 벤처 창업하였습니다.

김상열 교수는 국내 최초로 단파장타원계(single wavelength ellipsometer, SWE)와 분광타원계(spectroscopic ellipsometer, SE) 등을 개발하였으며 ㈜엘립소테크놀러지를 통하여 dual laser, 가변입사각, mapping, micro spot, high speed, 편광제어 분광투과율/반사율, 초미세 표면이방성 등 다양한 사양을 추가한 시스템들을 개발하여 왔습니다.

(주)엘립소테크놀러지에서는 이 같은 ellipsometer와 polarimeter(편광계) 제품군에 분광계(spectrometer)를 결합하고 수정된 고속푸리에변환법(modified Fast Fourier Transformation, m-FFT)을 적용함으로써 MgO on pattern, OLED, LED, 태양전지(solar cell), 등을 포함하는 다양한 제품영역에 걸쳐 sub-Å 두께의 초박막부터 수백 마이크론 두께의 후막(thick film)에 이르기까지 광범위한 영역의 막두께 측정에 적합한 광학장비들을 개발하여 보급하고 있습니다.

또한 ellipsometry의 편광기술을 기반으로 하여 정밀 리타데이션(R_in, R_th, Zero Retardation) 분석장비, 배향막 분석장비, high CR 측정장비(<100만:1), 편광판과 보상판이 접합된 복합판의 측틀어짐 정밀측정장비, Micro Polarization Profiler등 초정밀 편광측정장비들을 새로이 개발하여 공급하고 있습니다.

(주)엘립소테크놀러지는 세계일류의 광학기반 박막분석장비 제조업체로써의 긍지를 가지고 지속적인 연구개발을 통하여 현장에서 필요로 하는 박막 및 편광 분석장비를 사용자에 맞춤한 구동프로그램 및 분석프로그램과 함께 제공함으로써 귀사의 발전과 더불어 성장하고자 합니다.
회사연혁
2019

09. 홈페이지 신규 오픈
08. 특허출원 (블랭크 위상변위 마스크의 광 간섭 크기 측정 장치)
08. PCT-특허출원 (고배율 광학계를 적용하는 마이크로 스폿 분광타원계의 왜곡 보정 및 적용 방법)
07. 한국광학회 하계학술대회(07.14-17) :
분과초청 (마이크로스폿 분광타원계를 이용한 MoS2 단층박막의 분석)
06. 특허 등록 (분광 타원계를 이용한 표면 검사장치. 출원 : '17.09)
06. 디자인 특허등록 (편광판 계측기 디자인. 출원 : ’18.07)
05. 8th International Conference on Spectroscopic Ellipsometery (ICSE8, 5.26-31)
Development and Evaluation of Microspot Spectroscopic Ellipsometer
05. 특허출원 (고배율 광학계를 적용하는 마이크로 스폿 분광타원계의 왜곡 보정 및 적용 방법)
04. 특허출원 (연속 측정 가능한 분광 타원계)
04. 특허출원 (편광자 연속 회전 광량 측정 방법)
02. 한국광학회 동계학술대회(02.20~22) :분과초청
(편광자 연속회전 광량측정법과 Incomplete Fourier Transformation을 적용한 실시간 분광타원계의 개발)
01. 20 ㎛ Spot size Spectroscopic Ellipsometer 개발
01. Fast Spectroscopic Ellipsometer (측정시간 <= 0.8초) 개발

2018 11. 특허 등록 (4-반사경을 적용한 마이크로 스폿 분광 타원계. 출원 : '17.01)
10. IMID 2018 한국디스플레이산업전시회 참가(COEX, 10.17~19)
10. 두께 1nm 측정 가능한 Sepctroscopic Reflectometer 개발
01. 30 ㎛ 스팟 과 가변입사각 시스템을 겸비한 DUV 광대역 분광 타원계 개발 (3차년도 과제개발 기간 : 2018.01.01~2019.06.30)
2017 12. 50 ㎛ 스팟 과 가변입사각 시스템을 겸비한 DUV 광대역 분광 타원계 개발(과제)
10. IMID 2017 한국디스플레이산업전시회 참가(COEX, 10.17~19)
02. 2017년 한국광학회 동계학술대회 : (분광 타원법을 이용한 PET 필름의 광탄성 계수 및 잔류 응력 해석)
02. Spectroscopic Ellipsometry분석 시스템 기능향상
02. 100 ㎛ 스팟, DUV 광대역 분광 타원계 개발(과제)
2016

09. 산업통상자원부(한국산업기술평가관리원) 과제협약체결
(30 ㎛ 스팟 과 가변입사각 시스템을 겸비한 DUV 광대역 분광 타원계 개발)
05. 벤처기업등록(연구개발기업)
01. 액정학술대회(16th) 및 2016년 한국광학회 동계학술대회 : 반사형 타원계를 이용한 폴리이미드 배향막의 광학이방성 정밀 측정 및 정량분석
01. 2016년도 한국광학회 우수 논문상 (단축 이방성 박막들이 코팅된 시료의 타원식)
01. 패턴인식 시스템 개발

2015 12. Elli-AAL 장비(배향막 측정 시스템, CE인증) 개발 - 초정밀 시료 자동정렬 모듈 개발 적용
01. Elli-SE 베트남, Elli-PAS 중국 수출
2014 12. 특허 등록
(터치스크린의 ITO 패턴 검사용 현미경 및 이를 이용한 터치 스크린 패널의 ITO 패턴 검사 방법, 출원 : '12.06)
02. 한국광학회 동계학술대회 전시회 참가.
02. 2014년도 한국광학회 우수논문상 수상.
(개선된 투과형 타원계를 사용한 러빙된 Polyimide 배향막의 초미세 위상지연 정밀 측정)
2013 09. SE 분석 소프트웨어 업그레이드(분석속도 대폭 향상).
04. 편광판 흡수(투과)축 측정장비 "Elli-PAS" 개발.
01. 신제품 개발 : 스마트 SE.
2012 07. Inspection Miroscope "Elli-Muv" 제품개발.(TSP의 invisible ITO pattern 인식)
05. 특허 등록 (텍스처가 형성된 시료의 막 두께 측정방법, 출원 : '11.09)
05. Elli-SE S/W Program "Elli-50" launching.
01. 특허 등록 (배향막의 배향 상태 측정 장치 및 측정방법, 출원 : '10.02).
2011 06. Patented Textured Solar Cell Measurement System.
04. Developed LCD Alignment Layer Analysis System.
02. 벤처기업 재인증 (신기술기업)
01. Developing Micro Spot Spectroscopic Ellipsometer.
2010 12. INNO-BIZ 재인증 및 삼성 LCD In-Line 배향막검사장비 수주
11. 특허 등록 (마이크로 스폿 분광 타원계, 출원 : '08.09)
07. 본사 신축하여 이전 (수원시 팔달구 권광로 358, 엘타워 2층)
05. 대만(PTT)에 첫 장비 수출
03. Developed Hi - Performance Analysis Software Ver4.1.
03. Developed Hi - Speed Spectroscopic Ellipsometer.
2009 12. 고속 측정 및 마이크로 spot 엘립소미터 개발.
11. SE 일본 수출 1호(Osaka University).
05. Textured 태양전지 전용 박막 측정 장비(Elli-Ri) 개발.
2008 11. 고정밀 retardation 측정장비 개발
11. SWE 제1호 미국 수출 (The Pennsylvania State Univ.)
11. 경기도 기술개발사업 협약 체결 (과제명 : LCD 배향막 검사 장비 개발)
10. 미국특허등록 (출원번호 : USA 7,443,512 B2, 출원 : '05.07)
    (APPARATUS AND METHOD FOR MEASUREMENT OF FILM THICKNESS USING IMPROVED FAST FOURIER TRANSFORMATION)
08. 특허 등록 (실리콘웨이퍼 두께 측정 방법, 출원 : '08.03)
07. 특허 등록 (편광복합소재의 광축 정밀 측정장비 개발, 출원 : '08.06)
04. 복합판 WV 위상판 분석 장치 개발
03. PDP 상부 유리기판의 MgO 보호막 측정기 제1호 중국 수출
03. 실리콘 wafer 두께 측정기 개발
2007 12. INNO-BIZ 인증 획득
11. 고정밀 retardation 측정장비 개발
08. 고정밀 CR 측정장비 개발(CR > 100만)
07. in line MgO 측정기시스템 개발
03. 나노소자특화팹센터로 본사이전
2006 11. 자동 가변 입사 방식 타원계 개발 (Elli-SE-V)
11. 벤처기업 재인증(신기술기업)
11. 특허 등록 (수직 편광판을 이용한 3차원 소광 구조, 출원 : '06.07)
09. 위상지연판 측정 장비 개발 (Rin, Rth 고속 정밀 측정기)
08. 특허 등록 (편광판 흡수축 틀어짐 측정 방법, 출원 : '06.06)
07. 산학연공동컨소시엄 과제 협약 체결 (편광 소재의 광축 측정용 고속 계측 장비 개발)
06. 일본 판매 대리점 계약(Miwaopto)
06. 공통핵심기술개발사업 협약 체결 (편광복합소재의 광축 정밀 측정장비 개발)
06. 특허 등록 (편광판과 위상지연판이 접합된 시료의 광축 정렬 오차 측정 장치 및 그 방법, 출원 : '04.08)
04. 나노소자특화팹센터 장비 출연 (분광타원계 Elli-SE-F)
03. 초고속 초정밀 Air-Gap 측정장비 개발
2005 08. 국외 특허 출원- 일본
07. 특허 등록 (엘시디 유리기판의 굴곡측정장치, 출원 : '02.07)
07. 국외 특허 출원- 일본,미국
04. 상표 등록
03. 특허 등록 (PDP 상부 유리기판의 MgO 보호막 두께 측정장치 및 그 방법, 출원 : '04.10)
02. CE-mark 획득
2004 12. 특허 등록 (노(爐) 내부 감시용 결상 광학계, 출원 : '02.05)
08. 특허 출원
04. 지진 감지기 개발 / 본사 이전 (수원시 팔달구 우만동)
03. 편광제어 Micro 투과율 Profiler 광학계 개발
03. 특허 등록 (진폭분할 편광측정기를 사용한 초고속 타원계, 출원 : '01.05)
2003 12. 산업자원부 과제 협약체결 (광대역 막두께 측정용 타원분광계)
10. Micro 반사율/투과율 광학계 개발
09. In Situ Monitoring, Dielectric Coating System 개발
08. 특허 등록(초고속 분광타원계, 출원 : '01.12)
08. 기술혁신 개발사업 과제협약 (타원분광계)
07. 특허 등록 (개선된 고속 푸리에 변환을 이용한 막두께 측정 광계측기, 출원 '03.01)
06. Micro 투과율 광학계 개발
05. 고속 분광타원계 개발
02. 2파장 타원계 개발
2002 11. m-FFT를 이용한 ellipso-spectrometer 개발 / 벤처기업 재인증 (신기술기업)
08. 특허 등록 (회전검광자형 in situ 타원계)
05. 산학연공동컨소시엄 과제 협약체결 (과제명: 2파장 타원계 개발)
04. (주) 엘립소 테크놀러지 기업부설연구소 인가
03. 로내 vision 개발 / 2차원 스캐닝 타원계 개발
02. 아주대학교 창업보육센터 입주 / 가변입사각 타원계 개발
2001 08. 경기중소기업종합지원센터(KSBC) 입주 /
06. 산학연공동컨소시엄 과제 협약체결 (자동화된 2차원 스캐닝 타원계 개발)
05. 기술혁신개발사업 과제 협약체결 (로 내부 모니터용 영상시스템 개발)
01. 실용신안등록 (고속 분광타원 해석기)
2000 12. 산업자원부 과제 협약체결 (회전편광자 방식의 고속 분광타원계 개발)
07. Ellipso Technology Co., Ltd. 설립 / 벤처기업 인증 획득 (기술평가우수기업) /
07. 단파장 타원계 개발
05. 경기 벤처 창업 경연대회 우수상 / 예비 벤처기업 인증 획득